【即時新聞】晶片需求爆發!艾司摩爾(ASML)狂升財測上看400億歐元,高階設備全被搶光

權知道

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  • 2026-04-15 20:59
  • 更新:2026-04-15 20:59
【即時新聞】晶片需求爆發!艾司摩爾(ASML)狂升財測上看400億歐元,高階設備全被搶光

半導體設備巨頭艾司摩爾(ASML)最新公布的財報釋出極度樂觀訊號!受惠於全球AI基礎建設的狂熱需求,不僅首季財報表現穩健,管理層更強勢上調全年的營收指引,最高上看400億歐元。執行長直言,目前高階設備產能已被搶購一空,供不應求的盛況預計將延續至明年以後,顯示AI帶動的半導體復甦循環正全面加速發酵。

首季財報符合預期,高毛利產品推升獲利表現

根據最新財報數據顯示,艾司摩爾(ASML)第一季總淨營收達到88億歐元,完全符合市場預期。其中,安裝量基礎營收貢獻了25億歐元,微幅超越原先財測目標。受惠於部分高毛利零組件的強勁出貨,本季毛利率衝上53%的優異水準,帶動單季淨利來到28億歐元,整體獲利結構相當健康。

AI基礎建設需求強勁,全年營收指引大幅收斂向上

展望未來,管理層釋出極度自信的營運指引。針對第二季,預估淨營收將落在84億至90億歐元之間,毛利率維持在51%至52%。更令市場振奮的是,公司將全年的營收目標,從原先的340億至390億歐元,大幅收斂並上修至360億至400億歐元區間,毛利率預期則維持在51%至53%。這波成長動能主要來自AI基礎建設的龐大投資,帶動半導體產業持續穩健成長。

高階產能吃緊恐延續至明年,積極擴大EUV設備產出

由於AI晶片需求實在太過強勁,公司坦言目前的供應量在可預見的未來都無法滿足市場需求。客戶端明確表示,目前的產能已經全數售罄,且供應吃緊的狀況將延續到明年之後。為了因應爆發性的擴產訂單,公司計畫今年至少產出60台低數值孔徑極紫外光(Low NA EUV)設備,並規畫在明年進一步將目標上調至至少80台。

沉浸式設備買氣回溫,新世代技術藍圖更加明確

除了最頂尖的EUV設備,原本預期持平的非EUV設備需求也出現反轉向上的態勢。財報會議中指出,沉浸式設備的買氣已經迅速回溫,預計近期的銷售量將與去年相當。在技術藍圖方面,最新的NXE:3800E設備吞吐量將從每小時220片提升至230片,並預計在2031年將機台處理能力推升至每小時330片,協助客戶更快提升產能。

審慎評估出口管制變數,整體營運風險仍在可控範圍

針對投資市場高度關注的地緣政治與出口管制議題,管理層展現出穩健的應對態度。財務長強調,在目前上調至360億至400億歐元的全年財測區間內,已經將潛在的出口管制討論結果納入考量,顯示公司具備足夠的營運緩衝空間。隨著各項設備需求迅速回暖,整體的訂單執行風險已大幅降低,展現出強大的市場定價與應變能力。

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