近期受惠於全球 AI 算力需求井噴，帶動先進晶片訂單成長，荷蘭半導體設備巨頭 ASML 正加速擴張其極紫外光(EUV)曝光系統產能。為因應台積電與輝達等龍頭企業加碼 AI 基礎設施，公司已啟動擴產計畫以追趕訂單，市場焦點如下：

• 產能擴張與財測上修：今年目標生產至少 60 台 EUV 設備，並將全年銷售預期最高調升至 470 億美元。
• 資本支出與基礎建設：預計投入 22 億美元資本支出，用於美國、德國、韓國等據點的潔淨室擴充，以及荷蘭總部新園區建設。
• 供應鏈與技術優化：高層介入協調十萬個精密零件的供應鏈聯動以緩解瓶頸；針對下一代 High-NA 系統成本激增的觀望情緒，則透過提供現有平台升級方案來延長設備壽命。

艾司摩爾(ASML)：近期個股表現

基本面亮點

ASML 成立於 1984 年，總部位於荷蘭，為全球半導體製造光刻系統市場的領導者。其核心 EUV 設備是晶片製造商突破 5 奈米製程節點的關鍵，主要客戶涵蓋台積電、三星與英特爾等大廠。公司營運模式類似組裝廠，多數零件製造採外包形式，藉此維持技術專注度。

近期股價變化

根據 2026 年 4 月 29 日最新交易數據顯示，單日開盤價為 1386.7050 美元，盤中最高觸及 1399.7000 美元，最低來到 1374.9200 美元，終場收在 1394.0800 美元，上漲 9.5200 美元，漲幅達 0.69%。當日成交量為 1,256,470 股，較前一交易日減少 34.79%。

綜合來看，ASML 憑藉強勁的先進製程需求支撐，積極擴張產能並優化設備效能。投資人後續可持續留意 High-NA 系統的客戶導入進度，以及全球地緣政治出口限制與電力供應等潛在變數對供應鏈營運的實質影響。

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