擴大在台佈局與永續發展策略

全球晶片微影技術領導廠商艾司摩爾(ASML)近日公布最新在台營運與永續發展策略。受惠於AI與高效運算帶動全球半導體需求持續成長，台灣區總經理汪佳慧表示，今年規劃在台灣擴大招募約1,000名新進人才，其中新北廠職缺達300個。

為因應客戶擴產需求與全球設備產能提升，本次人才招募重點包含以下三大領域：

• 客戶支援服務
• 智慧製造與設備產能提升
• 供應鏈管理

在產品技術與永續發展方面，該公司持續透過技術創新降低生產單位晶圓的能耗。以旗艦機型TWINSCAN NXE:3800E為例，每小時產能已由220片提升至230片。此外，極紫外光設備每次晶圓曝光的能耗自2018年以來已降低57%，並規劃以2040年達成整體價值鏈溫室氣體中和為長期目標，推動半導體產業低碳轉型。

艾司摩爾(ASML)：近期個股表現

基本面亮點

公司成立於1984年，總部位於荷蘭，為全球半導體製造光刻系統的市場領導者。光刻技術佔製造尖端晶片成本的重要比例，各大晶片製造商皆需仰賴其下一代EUV光刻設備，以持續推進5奈米以下的先進製程節點。目前其主要將零件製造外包，產品廣泛被台積電、三星與英特爾等全球主要半導體製造商採用。

近期股價變化

根據2026年5月22日的最新交易數據顯示，(ASML)股價表現呈現上揚趨勢。當日開盤價為1620.0300，盤中最高觸及1653.5300，最低來到1615.8500，終場收在1632.9000，單日上漲40.9000，漲幅達2.57%。此外，當日成交量達1,669,568，成交量較前一交易日增加22.91%，顯示市場交投轉趨熱絡。

綜合評估，(ASML)在AI需求驅動下積極擴張在台編制，同時透過提升高階EUV設備產能與能源效率來鞏固其市場地位。投資人後續可持續留意先進製程設備的交付進度、主要客戶的資本支出規劃，以及新一代高數值孔徑極紫外光設備導入對公司整體營運的實質影響。

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