ASML

新一代設備商用進展與市場展望半導體設備大廠艾司摩爾(ASML-US)執行長福克近日指出，預計幾個月內將有首批採用高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)設備製造的晶片問世。針對市場關注的新設備進展與產業前景，重點如下：設備優勢：最小特徵尺寸可再縮小約66%，支援更高密度電晶體設計，長期將有助於降

首批High-NA EUV晶片即將交付荷蘭半導體設備龍頭艾司摩爾(ASML)新任執行長Christophe Fouquet近期表示，首批採用次世代高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）曝光機製造的邏輯與記憶體晶片，預計將在未來幾個月內正式交付。針對大客戶台積電先前提出該設備造價高達4億美元過於

近期艾司摩爾(ASML)新任執行長 Christophe Fouquet 在比利時研討會上宣布，首批採用次世代高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）曝光機製造的晶片預計將在未來幾個月內正式交貨。針對最大客戶台積電先前提出每台造價高達 4 億美元過於昂貴的看法，ASML 強調新技術能將晶片特徵尺

艾司摩爾(ASML-US)執行長 Christophe Fouquet 近日在比利時研討會上宣布，首批採用次世代高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）設備製造的晶片，預計將在未來數月內問世，應用範圍將涵蓋邏輯與記憶體晶片。此發言正面回應了市場與最大客戶台積電對於新技術成本過高的疑慮。針對新設備

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大盤解析
美股今日延續跌勢，三大指數連續第三個交易日收黑。標普500收於7,353.61點，跌0.67%；那斯達克下跌0.84%，收於25,870.71點；道瓊跌0.65%，收於49,363.88點；小型股壓力最大，羅素2000下跌1.01%。唯一撐住的是費城半導體指數，幾乎持平，僅微升0.0

英特爾（Intel，NASDAQ: INTC）股價在5月11日衝上132.75美元的歷史新高，距離2025年的52週低點18.97美元，漲幅接近600%。這不是短線炒作，背後是一連串具體的轉型動作在支撐。問題是：這波反彈，是基本面追上來了，還是市場跑太快？18.97美元到132.75美元，Lip-B

ASML執行長週二在比利時imec研討會宣布，搭載下世代High-NA（高數值孔徑，能製造更精密電路的曝光機）技術的晶片，預計數個月內就會量產出貨。與此同時，對沖基金Coatue在2026年第一季買進49.6萬股ASML，市值達6.55億美元，是該季最大的新建倉部位。這兩件事同時發生，市場只剩一個問

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High-NA量產倒數，Coatue押注6.55億美元ASML是全球唯一關鍵，台股誰跟著受惠？ASML執行長Fouquet本週在比利時imec研討會上宣布，搭載High-NA（高數值孔徑，下一代極紫外光微影機台）技術生產的第一批晶片，預計在數個月內問世。與此同時，對沖基金Coatue在2026年第一